當前所在位置: 首頁 > 產(chǎn)品首頁 >檢測、測量 、自動化、工業(yè)IT >檢查和檢測 >有限元顯微鏡/X光顯微鏡/電子顯微鏡 >ALPhANOV雙激光斷層注入顯微鏡D-LMS
產(chǎn)品介紹
用于雙激光故障注入的 D-LMS 顯微鏡站是一個平臺，允許獨立聚焦和掃描兩個激光點，用于集成電路的評估。雙點注射工藝的理想選擇，它提供了所有空間和時間的靈活性，可以通過背面分析電路
性能特點
集成電路評估雙激光站(均通過顯微鏡點)
背面激光故障注入的理想選擇
具有高分辨率物鏡的1米以下單模激光光斑尺寸
兩個激光光斑都具有完全獨立的時間和空間調(diào)制
通過數(shù)百米的硅來觀察集成電路路徑上的激光點的照相機
高再現(xiàn)性和高分辨率激光光斑位移
包括三個阿爾法諾夫激光模塊
可選功能與配件
光學鏡頭技術
光電發(fā)射套件
熱激光刺激套件
通過CE認證的激光外殼完成自動設置
高分辨率目標
技術參數(shù)
單模光纖激光器
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PDM+/PDM+ HP |
PDM4+ and PDM4+ HP |
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脈沖持續(xù)時間 |
從1.5納秒到連續(xù)波 |
從1.5納秒到連續(xù)波 |
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峰值功率 |
高達3.2瓦 |
高達10瓦 |
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波長 |
980納米；1064牛米 |
980納米；1064牛米 |
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重復率 |
從單發(fā)到250兆赫 |
從單發(fā)到250兆赫 |
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命令接口 |
TTL/LVTTL /軟件& dlls |
TTL/LVTTL /軟件& dlls |
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光束質(zhì)量 |
單模 |
單模 |
InGaAs 紅外相機
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Captor |
640x512 µm |
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動態(tài)量程 |
140 dB |
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接口 |
USB(包含軟件) |
電學
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電壓 |
220 V/110 V |
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電流 |
16 A |
津公網(wǎng)安備12010102000946號
